MEMSおよび半導体パッケージ用感光性フォトレジスト

KMPR100
SU-8 3000
PMGI & LOR
Remover K

Remover K | 製品ラインナップ | 日本化薬株式会社

Remover K
Remover K は KMPR 用の水系レジスト剥離液です。
狭ピッチ・高アスペクト比めっき対応の剥離液としてご使用いただけます。
Remover K を用いた剥離工程は、はじめに、レジストを Remover PG にて膨潤させ、さらに、Remover K で酸化・分解剥離を行った後に、Neutralizer K で中和処理を行います。
また、強固に架橋したフォトレジストの剥離にも有効です。ハードベークを行っていないSU-8の除去も可能なため、ウェハーのリワークにも使用することができます。
特徴
水溶液タイプ
強固に架橋したフォトレジストに有効
狭ピッチ・高アスペクト比対応
SU-8ウェハーリワーク
詳しい情報はこちら→PDF
removerk